Radioelektronikos terminų žodynas. – Vilnius : BĮ UAB „Litimo“. Kazimieras Gaivenis, Gytis Juška, Vidas Kalesinskas. 2000.
parallel-plate plasma-etching reactor — plazminis ėsdintuvas su lygiagrečiais elektrodais statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. parallel plate plasma etcher; parallel plate plasma etching reactor vok. Parallelelektroden Plasmaätzer, m rus. реактор с параллельными… … Radioelektronikos terminų žodynas
machine à décaper par plasma à plaques parallèles — plazminis ėsdintuvas su lygiagrečiais elektrodais statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. parallel plate plasma etcher; parallel plate plasma etching reactor vok. Parallelelektroden Plasmaätzer, m rus. реактор с параллельными… … Radioelektronikos terminų žodynas
Parallelelektroden-Plasmaätzer — plazminis ėsdintuvas su lygiagrečiais elektrodais statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. parallel plate plasma etcher; parallel plate plasma etching reactor vok. Parallelelektroden Plasmaätzer, m rus. реактор с параллельными… … Radioelektronikos terminų žodynas
plazminis ėsdintuvas su lygiagrečiais elektrodais — statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. parallel plate plasma etcher; parallel plate plasma etching reactor vok. Parallelelektroden Plasmaätzer, m rus. реактор с параллельными электродами для плазменного травления, m pranc. machine… … Radioelektronikos terminų žodynas
реактор с параллельными электродами для плазменного травления — plazminis ėsdintuvas su lygiagrečiais elektrodais statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. parallel plate plasma etcher; parallel plate plasma etching reactor vok. Parallelelektroden Plasmaätzer, m rus. реактор с параллельными… … Radioelektronikos terminų žodynas
Reactive-ion etching — (RIE) is an etching technology used in microfabrication. It uses chemically reactive plasma to remove material deposited on wafers. The plasma is generated under low pressure (vacuum) by an electromagnetic field. High energy ions from the plasma… … Wikipedia
